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一文了解銅球鍵合技術(shù)演進(jìn)

 更新時間:2026-02-11 點擊量:105

相較于傳統(tǒng)的金(Au)絲鍵合,銅(Cu)絲憑借其良好電導(dǎo)率、熱導(dǎo)率、抗電遷移能力及顯著的成本優(yōu)勢,逐漸成為先.進(jìn)封裝領(lǐng)域明星材料。科準(zhǔn)測控】持續(xù)關(guān)注鍵合技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步,今天,跟隨小編一起,系統(tǒng)了解銅球鍵合技術(shù)的科學(xué)演進(jìn)與產(chǎn)業(yè)化實踐過程。

 

一、惰性氛圍控制與專用設(shè)備開發(fā)

銅在高溫下快速氧化,在鍵合過程中,通過電火花(EFO)熔絲成球的瞬間,后續(xù)熱超聲鍵合階段,銅球表面都容易形成氧化層,而這將嚴(yán)重劣化其潤濕性與變形能力,導(dǎo)致鍵合界面強(qiáng)度不足。因此,早期銅球鍵合研究主要聚焦于基礎(chǔ)工藝可行性:

惰性氣氛下的成球控制:研究在氮氣(N?)或氬氣(Ar)保護(hù)下,EFO參數(shù)(電流、時間、波形)與保護(hù)氣體流量、純度對銅球形貌、表面潔凈度及一致性的影響規(guī)律。

可鍵合性窗口探索:系統(tǒng)分析在隔絕氧氣的環(huán)境下,鍵合溫度、超聲功率、壓力及時間等關(guān)鍵參數(shù)對Cu-Al界面初始結(jié)合強(qiáng)度(以剪切力、拉力為表征)的耦合作用。

芯片損傷機(jī)制與規(guī)避:鑒于銅材料硬度較高,探究鍵合能量傳遞至硅芯片導(dǎo)致的“彈坑"形成機(jī)理,并據(jù)此優(yōu)化工藝參數(shù),在確保鍵合強(qiáng)度與保護(hù)芯片完整性之間取得平衡。

 

這一階段的技術(shù)突破,直接驅(qū)動鍵合設(shè)備系統(tǒng)性革新。從早期對現(xiàn)有金絲鍵合機(jī)進(jìn)行氣體密封改裝,到如今主流設(shè)備制造商推出全集成、自動化的專用銅絲鍵合機(jī),這些專用設(shè)備集成了高精度氛圍控制系統(tǒng)、針對銅材料優(yōu)化的EFO發(fā)生器及運動控制模塊,為產(chǎn)業(yè)化提供了穩(wěn)定的裝備基礎(chǔ)。

 

二、界面反應(yīng)動力學(xué)與可靠性物理

當(dāng)工藝氛圍與設(shè)備瓶頸得以解決,決定鍵合點長期可靠性的微觀界面問題便成為核心研究焦點。鋁焊盤與銅球在熱與超聲能量作用下發(fā)生互擴(kuò)散,并遵循Al-Cu二元相圖,傾向于形成一系列富銅側(cè)的金屬間化合物,如AlCuAl?Cu、Al?Cu?、Al?Cu?等。這些IMCs具有獨特的晶體結(jié)構(gòu),其電學(xué)、力學(xué)及熱學(xué)性質(zhì)與母材差異顯著。

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Al-CU二元相圖(AICu40、AICu50

這種多IMC相共存的界面結(jié)構(gòu)與Au-Al鍵合系統(tǒng)失效(如“紫斑"、“白斑"現(xiàn)象)具有高度相似性。在Au-Al界面,多種IMC的生成及其伴生的柯肯達(dá)爾空洞、熱膨脹失配等問題,常導(dǎo)致電阻升高和脆性斷裂。因此,大量研究對Cu-AlAu-Al系統(tǒng)進(jìn)行了對比分析,重點關(guān)注:

反應(yīng)動力學(xué)差異:Cu-Al IMCs的生長速率、激活能及序列形成規(guī)律與Au-Al系統(tǒng)不同,通常需要更高的溫度或更長的老化時間才能形成顯著厚度的IMC層。

微觀結(jié)構(gòu)與失效機(jī)制:不同Cu-Al IMCs的形貌、分布及其界面處的應(yīng)力狀態(tài),如何影響微裂紋的萌生與擴(kuò)展;電流負(fù)載下電遷移行為在Cu-Al界面的具體表現(xiàn)形式。

工藝-結(jié)構(gòu)-性能關(guān)聯(lián):初始鍵合參數(shù)如何影響IMC相的形核與生長,進(jìn)而決定老化后界面結(jié)構(gòu)的演變路徑。

 

精準(zhǔn)工藝控制與可靠性評估

早期研究多集中于實現(xiàn)初始鍵合,一個真正“牢固的Al焊盤鍵合",必須能夠在高溫存儲、溫度循環(huán)、高電流負(fù)載等嚴(yán)苛條件下,保持界面的電學(xué)與機(jī)械完整性。這要求技術(shù)研究向更深層次發(fā)展:

精細(xì)化工藝窗口界定:超越“可鍵合"范圍,界定出能形成最好初始IMC結(jié)構(gòu)(如連續(xù)、均勻、厚度適中)的工藝參數(shù)空間。

界面演化預(yù)測與監(jiān)控:建立基于物理模型的IMC生長動力學(xué)方程,并結(jié)合科準(zhǔn)測控倡導(dǎo)的高精度微觀分析技術(shù)(如掃描電子顯微鏡、能譜分析),實現(xiàn)對界面老化狀態(tài)的定量評估與預(yù)測。

失效物理模型構(gòu)建:建立IMC厚度、空洞率、相組成與鍵合點電阻、機(jī)械強(qiáng)度退化之間的定量關(guān)聯(lián)模型,為可靠性標(biāo)準(zhǔn)制定提供科學(xué)依據(jù)。

 

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以上就是銅球鍵合的大致發(fā)展歷程,當(dāng)前,雖然專用設(shè)備已為其規(guī)?;a(chǎn)提供穩(wěn)定保障,但在汽車電子、航空航天等高可靠性領(lǐng)域的全面應(yīng)用,仍需提高Al-Cu界面反應(yīng)更深刻理解與更精準(zhǔn)調(diào)控??茰?zhǔn)測控Alpha-W260 半導(dǎo)體全自動推拉力測試機(jī)通過精準(zhǔn)測量鍵合點老化前后的力學(xué)性能衰減,將Al-Cu界面金屬間化合物生長等微觀風(fēng)險轉(zhuǎn)化為可量化的工程數(shù)據(jù),為高可靠性應(yīng)用提供關(guān)鍵的質(zhì)量驗證手段。

 

 


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