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微電子封裝中金鋁金屬間化合物生長(zhǎng)的受控策略

 更新時(shí)間:2026-02-02 點(diǎn)擊量:184

從事微電子封裝可靠性研究時(shí),我們注意到在含開(kāi)放式空腔(open-cavity)的密封器件封裝中,向腔內(nèi)注入氫氣(H?),可以有效抑制金鋁(Au-Al)鍵合界面金屬間化合物(IMC)的過(guò)度生長(zhǎng),從而提升器件長(zhǎng)期可靠性。這一機(jī)制看似與常規(guī)認(rèn)知相悖,但在此特定場(chǎng)景下,卻展現(xiàn)出作為界面穩(wěn)定性調(diào)控因子的潛力。今天就跟隨小編一起一探究竟。

 

一、金屬間化合物的形成與影響

在金鋁鍵合系統(tǒng)中,兩種金屬在常溫及后續(xù)服役溫度下會(huì)通過(guò)固態(tài)擴(kuò)散發(fā)生反應(yīng),形成一系列金屬間化合物(如AuAl?、Au?Al?、Au?Al等)。這些化合物的過(guò)度生長(zhǎng)是界面老化的核心表現(xiàn):

1.  機(jī)械性能劣化:IMC通常較脆,其增厚會(huì)導(dǎo)致鍵合點(diǎn)機(jī)械強(qiáng)度下降,抗疲勞能力減弱。

2.  電性能退化:IMC的電阻率普遍高于純金屬,其生長(zhǎng)會(huì)引起連接電阻上升,影響信號(hào)完整性與功耗。

3.  誘發(fā)失效:由于金、鋁原子擴(kuò)散速率的不匹配(柯肯達(dá)爾效應(yīng)),在界面處易形成微空洞,最終可能導(dǎo)致電學(xué)開(kāi)路或熱機(jī)械失效。

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二、氫氣的抑制機(jī)理

研究認(rèn)為,氫氣抑制IMC生長(zhǎng)的機(jī)理可能在于其對(duì)鋁中點(diǎn)缺陷的相互作用:氫原子填充鋁晶格中的空位,從而阻礙了鋁原子通過(guò)空位擴(kuò)散機(jī)制向金側(cè)的遷移。

在固態(tài)擴(kuò)散中,原子往往借助晶格空位進(jìn)行遷移。鋁原子向金中的擴(kuò)散是形成IMC的必要步驟。理論推測(cè),當(dāng)密封腔體內(nèi)充滿氫氣時(shí),氫分子可能在鋁表面解離并吸附,部分氫原子(H)進(jìn)入鋁的晶格間隙或占據(jù)空位。這相當(dāng)于減少了鋁原子擴(kuò)散可用的載體(空位),顯著降低鋁的有效擴(kuò)散系數(shù),從而延緩IMC反應(yīng)前沿的推進(jìn)速度。

 

三、嚴(yán)苛的工藝前提與應(yīng)用局限

盡管這一現(xiàn)象為可靠性提升提供了新思路,但其實(shí)際應(yīng)用受到嚴(yán)格限制:

1.  封裝形式局限:該技術(shù)僅適用于具備高氣密性金屬/陶瓷空腔的封裝結(jié)構(gòu)。這類封裝常見(jiàn)于對(duì)可靠性要求jigao的航天、航空、國(guó)防及部分MEMS傳感器領(lǐng)域。而占市場(chǎng)主導(dǎo)地位(超過(guò)95%)的塑封器件,因環(huán)氧模塑料對(duì)氣體(包括氫氣)具有滲透性,無(wú)法維持穩(wěn)定的內(nèi)部氣體環(huán)境,因此不適用此技術(shù)。

2.  密封性是根本前提:即使采用空腔封裝,也必須保證封裝在整個(gè)生命周期內(nèi)具有穩(wěn)定氣密性。任何微小的泄漏不僅會(huì)導(dǎo)致氫氣逸出,使保護(hù)效應(yīng)失效,還可能引入水汽等有害物質(zhì),引發(fā)更嚴(yán)重的腐蝕等問(wèn)題。

 

四、結(jié)論與啟示:特定路徑的可靠性強(qiáng)化方案

向密封空腔內(nèi)注入氫氣以調(diào)控金鋁IMC生長(zhǎng),是一項(xiàng)針對(duì)特定封裝類型的精密可靠性增強(qiáng)技術(shù)。它揭示了通過(guò)控制封裝內(nèi)部氣相環(huán)境來(lái)干預(yù)固相界面反應(yīng)的可能性,為可靠性要求下的設(shè)計(jì)提供了備選方案。

然而,其應(yīng)用范圍窄、工藝門檻高特點(diǎn),決定了它無(wú)法成為通用解決方案。對(duì)于絕大多數(shù)塑封及非氣密封裝,仍需依靠?jī)?yōu)化鍵合參數(shù)、引入擴(kuò)散阻擋層(如Ni)、采用新型互連材料等主流技術(shù)路徑來(lái)確保界面長(zhǎng)期穩(wěn)定。

 

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作為深耕力學(xué)檢測(cè)領(lǐng)域多年的企業(yè),科準(zhǔn)測(cè)控的產(chǎn)品能夠?qū)γ芊馄骷孤┞始皟?nèi)部氣氛進(jìn)行精確定量分析,是驗(yàn)證和實(shí)施此類氣相保護(hù)工藝的質(zhì)量控制工具。同時(shí),掃描電子顯微鏡(SEM)、聚焦離子束(FIB)及透射電子顯微鏡(TEM)等一系列微觀分析平臺(tái),可對(duì)IMC的形貌、物相、厚度及元素分布進(jìn)行納米乃至原子尺度的縱深解析,為客戶深入理解界面反應(yīng)機(jī)理、評(píng)估工藝效果、最終提升產(chǎn)品可靠性,提供從宏觀性能到微觀本質(zhì)的全面數(shù)據(jù)支撐與洞察。


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